国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院回应
近期，各大视频平台疯传一条消息称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。还在视频中配了这样一张图，表示图片中的项目就是光刻厂。对此，微信公众号“中国电子院”9月18日发布信息辟谣称，该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。
网络上流传的图片 本文图片均转自微信公众号“中国电子院”（下同）
中国电子院介绍道，HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施。它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一，早在2019年就开始建设，将于2025年底投入使用。
北京高能同步辐射光源项目实拍图
HEPS的作用是通过加速器将电子束加速到6GeV，然后注入周长1360米的储存环，用接近光速的速度保持运转。
电子束在储存环的不同位置通过弯转磁铁或者各种插入件时，就会沿着偏转轨道切线的方向释放出稳定、高能量、高亮度的光，也就是同步辐射光。
简单的说，HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描，从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。因此HEPS是进行科学实验的大科学装置，并不是网传的光刻机工厂。
该项目由全国勘察设计大师、国投集团首席科学家娄宇带队，中国电子院多个技术科研和设计团队协同合作。
从项目可研立项到项目落地，中国电子院攻克了多项技术和工艺难关，解决了项目不均匀沉降、微振动控制、超长结构设计、光伏板设计、精密温度控制、工艺循环冷却水系统、超复杂工艺系统等七大技术难题，实现了重大技术突破，指标控制达到了国际先进水平。
目前高能同步辐射光源配套工程已全面完工，向产生世界最“亮”的光又更近了一步。
